Поделитесь с друзьями
Уважаемые студенты, в связи с тем, что ежегодный Международный симпозиум TILIP EPIIC 2021 состоится в дистанционном формате, мы продлеваем срок приема заявок для желающих принять участие.
Заявки принимаются до 16 ноября.
- Дедлайн подачи заявок - 18 октября 2020 года (продлен до 16 ноября)
- Даты участия в конференции – 2 - 8 марта 2021 года
- Место проведения - Бостон, США
- Количествово мест - 4
В этом году основной темой симпозиума станет “China and the world”.
В рамках мероприятия вас ожидают дискуссии и встречи с известными экспертами, участие в круглых столах, а также от нашей делегации необходимо будет представить презентацию, созданную сообща всеми представителями группы.
В связи с эпидемиологической ситуацией в мире конференция возможно будет проходить в дистанционном формате!
Участие в Симпозиуме так же открывает возможность присоединиться к международным исследованиям или получить поддержку на свой личный проект.
Условия участия:
- студенты 3-4 курсов бакалавриата , студенты 1-2 курсов магистратуры, студенты ИОНа И МВШСН, для кого эта тема представляет интерес с точки зрения учебной и профессиональной деятельности, и которые могут достойно представить ИОН на данной конференции
- уровень знания английского не ниже upper-intermediate
- Наличие собственных наработок и письменных работ на указанную тему является существенным преимуществом при отборе!
- Рекомендовано направлениям Менеджмент, Мировая политика, Политология, Зарубежное регионоведение
Студенты, прошедшие собеседование, будут уведомлены о результатах в течение 3 дней, после собеседования.
Стоимость:
- Участие, проживание на кампусе в комнате со студентами Университета Тафтс, трехразовое питание, материалы - предоставляются бесплатно.
- Перелет Москва-Бостон-Москва - предоставляется за счет ИОН в рамках 100% скидки на перелет (облагается налогом НДФЛ в 13%)
- Консульский сбор за получение визы - 160 долларов США
- Личные расходы
Контакты
За дополнительной информацией вы можете обращаться к Вере Сурковой surkova@universitas.ru, 2 корпус 223 кабинет.